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[특징주] 아이에스티이, SK하이닉스 차세대 저전력 낸드 개발…퀄테스트...
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일반적인 화학 기상 증착(CVD) 방식과 달리 플라즈마를 이용해 반응 가스를 활성화시켜 낮은 온도에서도 고품질의 박막을 형성할 수 있다. 현재 아이에스티이의 PECVD장비는 올해 SK하이닉스 공정에 공급예정이며...


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